20 февраля 2026 г.
ИКФИА СО РАН
Часовой пояс Asia/Yakutsk
Регистрация и подача тезисов завершена

Исследование транспортных свойств однослойного MoS2

20 февр. 2026 г., 12:20
10 м
каб. 200 (ИКФИА СО РАН)

каб. 200

ИКФИА СО РАН

г. Якутск, проспект Ленина, д. 31

Докладчик

Александров Андрей (СВФУ)

Описание

Двумерные (2D) кристаллы дихалькогенидов переходных металлов (ДПМ) вызвали значительный интерес благодаря их большому потенциалу новых применений, а также в фундаментальных исследованиях [1-3]. Особенно многообещающими в электронике и оптоэлектронике являются монослои полупроводниковых ДПМ, таких как MoS2, благодаря их необычной электростатической связи, большой подвижности носителей тока, высокой пропускной способности по току и сильному поглощению на видимых частотах, химическая и механическая прочность. Сильная спин-орбитальная связь и уникальная кристаллическая симметрия этих материалов приводят к сочетанию степеней свободы спина и долины, что может быть использовано при разработке новых устройств.
В этой работе мы вычисляем собственную дрейфовую подвижность электронов и дырок 2D дихалькогенида молибдена, используя линеаризованное уравнение Больцмана в приближении времени релаксации. В настоящей работе расчеты учитывают электрон-фононные взаимодействия описывающие амплитуды рассеяния от начального блоховского состояния электрона до конечного состояния посредством испускания или поглощения фонона. Чтобы сделать задачу решаемой, нужно проводить вычисление электрон-фононного матричного элемента на грубых сетках с помощью современных методов теории возмущений функционала плотности (DFPT), за которым следует интерполяция Фурье на эти ультраплотные сетки. Полученные значения ясно указывают на возможность использования двумерных ДПМ для термоэлектрических приложений и необходимость фундаментальных и сравнительных исследований свойств решеточного теплового переноса этих однослойных материалов из-за прямой связи между теплопроводностью и добротностью термоэлектрических характеристик.

Автор

Материалы презентаций

Нет материалов.